LAMINAS DELGADAS, 2

Autor: GIMENO LLORENS SUSANA.
Año: 2000.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FÍSICA .
Centro de realización: UNVIERSIDAD DE BARCELONA.

Resumen: Mediante pulverización catódica rf magnetrón se han depositado capas de nitruro de boro hexagonal y cúbico. El depósito de la fase cúbica se consigue en atmósferas ricas en argón (>85%AR-

Autor: VOZ SANCHEZ CRISTOBAL.
Año: 2000.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FISICA.
Centro de realización: FACULTAD DE FISICA.

Resumen: El elevado coste de producción de las tradicionales celulas solares en oblea de silicio monocristalino ha impedido la aplicación extensiva de la energia solar. Sin embargo, el deposito quimico en fase vapor asistido por filamento caliente (HWCVD) permite obtener silicio nanocristalino de forma sencilla, rapida y economica. Estas propiedades hacen de la tecnica HWCVD una muy atractica tecnologia para posibles aplicaciones industriales. Por ello, el desarrollo de esta tecnica se incluyo como uno de los objetivos principales en el proyecto Crystalline silicon solar cells on low temperature substrates CRYSTAL(JOR3-CT97-0126) en el programa JOULE de la Comunidad Europea. Este proyecto, liderado por BP Solar, pretendía el desarrollo de una tecnologia adecuada para la producción a gran escala de dispositivos de silicio cristalino en capa fina sobre substratos económicos. El trabajo de investigacion se inicio en 1996 con la construccion de un sistema multicamara de ultra alto vacío para procesos HWCVD. El presente trabajo se centra en las propiedades opticas y electricas del silicio nanocristalino obtenido mediante HWCVD en este equipo de depósito. Se presta una especial atención a aquellas propiedades que influirán en el rendimiento de los dispositivos fotovoltaicos. Ademas, se consideran aspectos fisicos y tecnologicos de esta tecnica. Finalmente, se recoge un estudio de las celulas solares obtenidas mediante HWCVD durante el periodo de investigacion dentro del proyecto CRYSTAL. Hasta la finalización del periodo de investigacion recogido en la memoria, el mejor dispositivo de silicio nanocristalino hidrogenado obtenido en nuestro laboratrio ofrecio una eficiecia de conversion del 2.5%. Se trata de una estructura p-i-n obtenida enteramente mediante HWCVD sobre un substrato de vidrio recubierto por un electrodo transparente. La zona activa de 2.4 um de grosor se obtiene en menos de 30 minutos de proceso (15 A/s). La temperatura de substrato es solo 150ºC mientras que el filamento se situa alrededor de los 1600ºC. El carácter preliminar de este resultado hace que pueda considerarse muy prometedor.

Autor: GARCÍA CAUREL ENRIC.
Año: 2000.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FÍSICA .
Centro de realización: FACULTAT DE FÍSICA, UNIVERSITAT DE BARCELONA.

Resumen: el contendio de la memoria de la tesis está estructurado en cinco capítulos. En el primero se presentan los principios básicos de la elilpsometria de reflexión, se describen los elipsómetros de fase modulada que trabajan en rango visible-ultravioleta (VIS-UV) e infrarrojo (IR) y se comentan algunos aspectos relacionados con la problemática de su funcionamiento. Una vez introducidas las características de la elipsometría de fase modulada, se presenta un nuevo método de calibración especialmente diseñado para el elipsómetro IR que permite realizar medidas con una precisión comparable a la de los elipsómetros que trabajan en el VIS-UV. También se incluye en este primer capítulo un ejemplo de aplicación que permite comparar la precisión de los resultados obtenidos a partir de medidas en el IR y en el VIS-UV. En el segundo capítulo se introducen las propiedades, aplicaciones y métodos de producción más relevantes de los nanomateriales. A continuación se describen las principales características de los plasmas de radiofrecuenca y los procesos de síntesis y crecimiento de nanopartículas y de capas finas nanoestructuradas. El capítulo termina con una descripción de los equipos utilizados para preparar las muestras consideradas a lo largo de la memoria. El tercer capítulo está dedicado al estudio de las propiedades ópticas y la estructura de los depósitos de nanopartículas de carburo de silicio amorfo hidrogenado (a-SiC:H). Los resultados de este estudio muestran la idoneidad de la elipsometría en los concerniente a la caracterización de nanopartículas. El cuarto capítulo se dedica al estudio de la amplificación provocada por capas finas discontinuas metálicas en la absorción de los materiales depositados sobre ellas tanto en capa fina como en forma de nanopartículas. En concreto, en este cuarto capítulo se revisan los mecanismos que permiten explicar el efecto de intensificación de la abosorción y se detallan las condiciones de preparación y caracterización de capas discontinuas de Au y de sus recubrimientos consistentes en capas finas de silicio nanoestructurado hidrogenado (ns-Si:H) y nanopartículas de a-SiC:H. En el quinto capítulo se presentan las conclusiones que se derivan de los resultados de los trabajos expuestos en la memoria. Además de los cinco capítulos también se incluyen cinco anexos. En el primero se revisa el concepto de medio efectivo y las principales características de la aproximación del medio efectivo (EMA) de Bruggeman. En el segundo se exponen las propiedades del estimador estadístico utilizado para cuantificar la bondad entre los ajustes de datos calculados y experimentales. El tercer anexo se dedica a explicar el modelo utilizado para deducir los parámetros estructurales de los recubrimientos discontinuos a partir de la información obtenida de las imágenes de microscopía. En el cuarto anexo se revisa el concepto de densidad ótpica. Finalmente, en el quinto anexo se detalla el proceso para derivar algunas expresiones citadas en el cuarto capítulo. La memoria termina con las referencias de los trabajos citados a lo largo de ésta.

Autor: GAGO FERNANDEZ RAUL.
Año: 2000.
Universidad: AUTONOMA DE MADRID.
Centro de lectura: CIENCIAS.
Centro de realización: INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID (CSIC).

Resumen: ESTA TESIS RECOGE EL ESTUDIO DE MATERIALES EN FORMA DE LAMINA DELGADA DENTRO DEL TRIANGULO DE COMPOSICIONES BORO-CARBONO-NITROGENO. ENTRE LAS POSIBLES APLICACIONES POSIBLES DE ESTOS MATERIALES, EL TRABAJO SE HA CENTRADO EN LA OPTIMIZACION DE LAS PROPIEDADES RELACIONADAS CON LA APLICACIÓN COMO RECUBRIMIENTO DE LAS PROPIEDADES RELACIONADAS CON LA APLICACIÓN COMO RECUBRIMIENTO DURO DE LAS CAPAS DEN HERRAMIENTAS DE CORTE (DUREZA, BAJO COEFICIENTE DE FRICCION Y ALTA ESTABILIDAD TERMICA.) LAS CAPAS HAN SIDO OBTENIDAS MEDIANTE UN SISTEMA DE EVAPORACION ASISTIDO CON UN HAZ DE IONES CONCURRENTE DURANTE EL CRECIMIENTO (IBAD). EL TRABAJO SE DIVIDE EN LA PREPARACION Y CARACTERIZACION DE CAPAS DE CARBONO AMORFO (A-C), NITRURO DE CARBONO AMORFO (A-CNX) Y COMPUESTOS TERNARIOS B-C-N. LA CARACTERIZACION DE LAS CAPAS SE HA REALIZADO FUNDAMENTALMENTE CON TECNICAS DE ANALISIS CON HACES DE IONES (RBS, ERDA Y TOF-ERDA) PARA EL ESTUDIO DE LA COMPOSICIÓN, ESPECTROSCOPIA DE ABSORCION DE RAYOS-X CERCA DEL BORDE (XANES) PARA EL ESTUDIO DE LA ESTRUCTURA DE ENLACE Y, FINALMENTE, MEDIANTE NANOINDENTACION PARA CARACTERIZAR LAS PROPIEDADES MECANICAS DE LAS CAPAS. LAS CAPAS DE A-C Y A-CNX MUESTRAN UN CARÁCTER GRAFITICO DOMINANTE CON UNA DUREZA ELEVADA (20 GPA). ESTE RESULTADO SE EXPLICA DEBIDO A LA FORMACION DE UNA SUPERESTRUCTURA, EN DONDE LOS PLANOS GRAFITICOS ESTAN CORRUGADOS Y ENTRELAZADOS. EN CUANTO A LAS CAPAS TERNARIAS, SE HAN IDENTIFICADO CON ÉXITO COMPUESTOS TERNARIOS BCN, TANTO CON ESTRUCTURA CUBICA COMO HEXAGONAL. EN ESTE CASO, SE HA OBTENIDO DUREZAS DE HASTA 35 Gpa, COEFICIENTES DE FRICCION POR DEBAJO DE 0,1 Y ESTABILIDADES TERMICAS HASTA 1000º C.

Autor: LOPEZ LUDEÑA JOSE MANUEL.
Año: 2000.
Universidad: AUTONOMA DE MADRID.
Centro de lectura: CIENCIAS.
Centro de realización: FACULTAD DE CIENCIAS.

Resumen: La tesis consiste principalmente en la preparación y analisis de peliculas de Titanio (Ti), de Nitruro de Titanio (TiN) y de Carburo de Titanio (TiC) y Carbo-nitruro de Titanio (TiCN). La importancia de este tipo de peliculas se encuentra en las multiples aplicaciones que existen en la industria, microelectronica, etc., debido a que estos materiales presentan excelentes propiedades tribologicas, como una alta dureza, una fuerte resistencia a la corrosión, un bajo coeficiente de rugosidad (friccion), etc. La preparación de estas peliculas se ha realizado mediante la tecnica de deposicion IBAD (Ion Beam Assited Deposition). Esta tecnica consiste en el bombardeo simultaneo de iones (de Ar o de N, según el caso) mientras se produce la evaporacion de la materia prima mediante el cañon de electrones. Los analisis de las muestras han aportado resultados importantes sobre las propiedades tanto estructurales y morfologicas, asi como mecanicas. Dichos analisis se han realizado mediante la siguientes tecnicas: a)XRD (X-ray Difraction): para determinar la cristalinidad de la muestra, asi como las direcciones de crecimiento y de composicion estequiometrica. B)AES (Auger electron Spectroscopy): para determinar la relación atomica entre los elementos asi como la relacion elemental en los enlaces. C)SEM y AFM(Scattering Electron microscopy y Atomic Force Microscopy): para determinar la estructura morfologica de la superficie de los materiales depositados. D)Nanoindentación: para determinar las propiedades mecanicas como la dureza y la elasticidad del material. A partir de todas las medidas realizadas en este trabajo, se han obtenido resultados muy importantes. Se han obtenido peliculas de alta dureza y baja contaminacion: en el caso del Ti la dureza ha sido aproximadamente de 7 Gpa y la contaminación inferior a 4% de oxigeno, en el caso del TiN se ha obtenido una dureza de alrededor de 26 Gpa en substratos de Si y de 32 Gpa en substratos de acero, presentado estas peliculas un porcentaje de contaminación inferior al 2% de oxigeno por último, se han depositado peliculas de TiC obtenidas por primera vez por esta tecnica (IBAD), obteniendose durezas altas (14-17 Gpa) y coeficientes de rugosidad muy bajos. Tambien se han realizado otros trabajos complementarios, como la preparación de películas de DLC(Diamond-Like-Carbon), con grandes aplicaciones industriales, como la deposición de estas películas sobre herramientas de corte industrial (por ejemplo, en cuchillas). En este caso, se ha utilizado la tecnica de CVD-RF (Chemical Vapor Deposition, con plasma de RadioFrecuencia).

Autor: GONAZALEZ LEAL JUAN M..
Año: 1999.
Universidad: CADIZ.
Centro de lectura: CIENCIAS.
Centro de realización: FACULTAD DE CIENCIAS.

Resumen: La presente memoria de investigación trata distintos aspectos de la tecnología de láminas delgadas de vidrios calcogenuros, en particular, aquellos basados en el arsénico. Específicamente, el estudio se ha centrado en las propiedades ópticas de estso materiales en forma de láminas delgadas. El objetivo último de esta investigación, ha sido comprobar la idoneidad de este tipo de materiales, para la fabricación de dispositivos ópticos difractivos, para su uso en el infrarrojo. La determinación de las constantes ópticas de láminas delgadas no es un problema de inmediata solución, ni existe un método universalmente establecido para ello. En este trabajo se han empleado diveros métodos de caracterización, basados en los espectros de transmisión o reflexión óptica, obtenidos en incidencia normal. Se han tenido en cuenta los efectos de la absorción del subsstrato, así como la posible falta de paralelismo entre las caras de la lámina. Estos métodos han permitido determinar el espesor, el índice de refracción y el coeficiente de absorción, de las láminas en estudio. El análisis de la dispersión del índice de refracción y de la dependencia espectral del coeficiente de absorción, se ha correlacionado con características estructurales de las aleaciones semiconductoras amorfas, quehan sido objeto de esta investigación. El estudio sobre la fabricación de láminas amorfas de las composiciones químicas As40S60 y As40Se60, mediante diferentes técnicas de deposición, en particular, la evaporación témica en vacio, el depósito químico a partir de la fase de vapor estimulado por plasma (PECVD) y el recubrimiento mediante centrifugado (spin coating), ha relevado su papel determinante en las propiedades ópticas de éstas. Por otra parte, se han preparado mediante evaporación térmica en vacio, láminas amorfas del sistema As40S60-xSex. La dependencia composicional de las constantes ópticas de las láminas de este sistema, surgiere que los elementos cacógenos, S y Se, se incorporan de forma similar a la red amorfa, la cual está formada por unidades piramidales del tipo AsS3-nSen (n=0,1,2 o 3). El aumento del índice de refracción y, por otro lado, la disminución del gap óptico, con el contenido de Se, pueden explicarse, respectivamente, considerando la mayor polarizabilidad electrónica de ésta especie química, en comparación con la correspondiente al S, y la menor energía del enlace As-Se frente a la d el enlace As-S. El estudio de los cambios estructurales inducidos por la luz, en las láminas amorgas del sistema As40S60-xSex. Ha puesto de manifiesto que en éstos intervienen cambios, tanto en el orden estructural de corto alcance, como de medio alcance. La investigación del fenómeno de fotovitrificación aatérmica de láminas amorfas de composición química As50Se50, depositadas mediante evaporación térmica, sobre substratos vítreos y sobre obleas de silicio, revela de forma inequívoca, la influencia del substrato en este fenómeno. Finalmente, los resultados recogidos en esta memoria, subrayan el atractivo de éstas aleaciones calcogenuras como medios de registro óptico, destinados a la fabricación de redes de difracción el el IR.

Autor: GARCIA GOMEZ DAVID.
Año: 1999.
Universidad: COMPLUTENSE DE MADRID.
Centro de lectura: FISICA.

Resumen: En esta tesis se ha analizado las anisotropías magnéticas inducidas en aleaciones metálicas amorfas, asimismo se ha modelado los procesos que dan cuenta del valor y carácter uniaxial de la amisotropía magnetocristalina de la aleación ordenada Fe50,Pd50 con estructura CuAu(I). Las aleaciones metálicas amorfas se han fabricado mediante la técnica de pulverización catódica. Se han crecido películas delgadas de Co76Fe4B20 que han sido sometidas a diferentes tratamientos térmicos con el fin de inducir anistropías magnéticas por ordenamiento de pares. Las anisotropías resultantes se han comparado con las anisotropías magnetoelásticas inducidas en películas crecidas sobre substrtaos de vidrio curvados. Este método de crecimiento de las aleaciones amorfas es una contribución original desarrollada en la presente tesis. Las películas crecidas sobre substratos pandeados se ven sometidas a una tensión permanente cuando el substrato recupera su forma plana. Dependiendo de la magnetostricción del material depositado se genera una amisotropía magnetoelástica que favorece ciertas direcciones para la alineación de la imanación. Utilizando esta técnica de inducción de anisotropías se han fabricado y analizado películas delgadas y multicapas de Fe80B20 y Co75Si15B10. La aleación Fe80B20 posee magnetostricción alta y positiva mientras que la aleaciónde Co75Si15B10 tiene magnetostricción baja y negativa. Los comportamientos magnéticos de las bicapas y multicapas se describen considerando dos fases magnéticas con direcciones fáciles de imanación perpendiculares entre sí. Aparecen anisotropías en el plano de las muestras de diferentes valores, así como leves anisotropías perpendiculares en ciertas películas. El trabajo teórico presentado en esta tesis ha tenido como objetivo el análisis de las distribuciones de carga electrónica en la aleacion ordenada Fe50Pd50. Se han descrito los procesos que determinan la magnitud y el carácter uniaxial de su anisotropía magnetocristalina.

Autor: SEFRIOUI ZOUAIR.
Año: 1999.
Universidad: COMPLUTENSE DE MADRID.
Centro de lectura: FISICA.
Centro de realización: F. CC FISICAS.

Resumen: Uno de los objetivos de mi tesis"Vórtices y dimensionalidad en YBa2Cu3O7-8 " consiste en investigar experimentalmente la respuesta dinámica de la transición de fase vidrio de vórtices-liquido de vórtices en películas delgadas de YBa2Cu3O7-8 de alta calidad, en un caso no analizado hasta el momento, es el cambio de dimensionalidad de la longitud de correlación de un vidrio de vórtices en función de la anisotropía y la intensidad del campo magnético. En el capítulo II se describen las técnicas experimentales que se han utilizado en esta tesis. A continuación, en el capítulo III se han caracterizado las muestras. En el capítulo IV se trata fundamentalmente de estudiar el efecto de la anisotropía sobre la dinámica de la transición de fase. El análisis de la dimensionalidad en esta tesis se ha basado en los distintos modelos ya presentados anteriormente. A su vez, se ha tenido en cuenta el papel jugado por la microestructura de estas muestras, su posible influencia en los resultados obtenidos, para lo cual sehan comparado con medidas efectuadas den muestras eje-a de alta calidad. A continuación se ha estudiado el efecto de la intensidad del campo magnético en las muestras que presentan el comportamiento bidimensional puro; y en el capítulo V se retoman diferentes sistemas con el objeto de realizar un estudio comparativo del estado físico del líquido de vórtices en diferentes óxidos superconductores. En el análisis de los resultados experimentales, hemos explorado la posibilidad de que en el líquido de vórtices la disipación pueda deberse no sólo a procesos activados térmicamente(Arrhenius), que es lo habitual en la literatura, sino que en algunas circunstancias exista disipación de tipo no Arrhenius.

Autor: MARTINEZ VIVIENTE FELIX LORENZO.
Año: 1999.
Universidad: COMPLUTENSE DE MADRID.
Centro de lectura: FISICA .
Centro de realización: FACULTAD DE CIENCIAS FISICAS.

Resumen: La técnica de deposición química en fase de vapor activada por resonancia cilcotrónica de electrones ECR-CVD ha sido empleada para crecer láminas delgadas de nitruro de Silicio hidrogenado (SiNx:H) de varias composiciones. Este dieléctrico de elevada permitividad tiene numerosas aplicaciones en microelectrónica, y reune algunas características adecuadas para sustituri o complementar al óxido de silicio como aislante de puerta en transistores de efecto campo de estructura MOS en aquellos casos en que la continua reducciónd e las dimensiones laterales de los dispositivos conduce a alcanzar el mínimo espesor de óxido tolerable. Con posterioridad al crecimeinto, las muestras fueron sometidas a tratamientos térmicos rápidos RTA a temperaturas comprendidas entre 300º C y 1050º C, con el objetivo de estudiar la evolución de la spropeidades del SiNx:H en función de la temperatura de estos procesos. Un amplio número de técnicas analíticas y espectroscópicas han sido utilizadas para analizar el comprotamiento del SiNx:H frente a la temperatura. La composición ha sido estudidiada mediante técnicas de analisis de haces de iones: RBS y ERDA. La estructura de enlaces del material ha sido analizada mediante espectros copia infrarroja, mientras que la simperfecciones presentes en la red de enlaces fueron estudiadas por resonancia de espín electrónico. Las propiedades de absorción óptica han sido estudiadas mediante espectroscopia en el Ultravioleta-visible. Por último se realizaron estructuras metal-nitruro-silicio para investigar las características eléctrica sy de intercara mediante medidas I-V y C-V. Las conclusiones del trabajo han permitido poner de manifiesto el papel determinante que desempeña el hidrógeno en las propeidades del SiNx:H el hidrógeno se puede encontrar enlazado tanto a silicio como a nitrógeno, así como, atrapado en en las microcavidades de la red sin formar enlaces. Para temperaturas elevadas de RTA se producen reacciones de deshidrogenación que deterioran las características eléctricas y el orden estructural de la red de enlaces. El tipo de reacción y la temperatura a la que se produce dependen de las concentraciones relativas de enlaces Si-H y N-H. A temperaturas intermedias de RTA tienen lugar reacciones de incorporación y transferecnia de hidrógeno, así como procesos de relajación estructural de las constricciones impuestas por los ángulos de enlace, todo lo cual se refleja tanto en el borde de absorción óptica como en las características de la intercara con el silicio.

Autor: CLEMENTE LEON MIGUEL.
Año: 1999.
Universidad: VALENCIA.
Centro de lectura: QUIMICA.
Centro de realización: UNIVERSIDAD DE VALENCIA: FACULTAD DE QUIMICA.

Resumen: En este trabajo hemos estudiado la obtención de nuevos materiales híbridos de ba se molecular. La combinación de dos componentes moleculares ha permitido integrar en un mismo componente químico las propiedades aportadas por estos dos componentes. Se ha utilizado una molécula anfifílica cargada positivamente para formar películas LB de polioxometalatos. Las películas obtenidas presentan propiedades magnéticas y electrocromicas. La química de coordinación del nitroprusiato ha permitido obtener varios compuestos polinucleares de cationes magnéticos de metales de transición. En los compuestos con Ni(en)22+ es posible detectar el estado metaestable del nitroprusiato. Se han obtenido nuevas sales radicales basadas enla comibnaciónde derivados de TTf con los aniones inorgánicos nitroprusiato y hexacianoferrato (III) como resultados más relevantes cabe destacar los siguientes: La obtención de la primera sal radical con moléculas de BEST en un estado de oxidación +2. La obtención de un empaquetamiento bidimensional totalmente original de las moléculas de TTF en la sal de nitroprusiato. Se han obtenido las sales de decametilferricinio de los polioxometalatos cone structua d eDawson-Wells, de Lindqvist y el polianión Co4(H2O)2(PW9034)2 10-. Las medidas magnéticas de este útlimo compuesto indican la existencia de interacciones magnéticas débiles entre el cluster de alto spin y el decametilferricinio.

Autor: VIERA MÁRMOL GREGORIO.
Año: 1999.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FÍSICA.
Centro de realización: FACULTAD DE FÍSICA.

Resumen: Esta Tesis Doctoral han versado sobre la preparación y caracterización de sistemas nanoestructurados de Si y de sus compuestos con C y N, mediante la tecnología de depósito químico en fase vapor asistido por plasma PECVD, y ha represenado una continuidad a los estudios anteriores sobre nanopartículas de polvo de Si obtenidos por esta técnica. La primera parte de este trabajo se ha centrado en el estudio de la síntesis de nanopartículas basadas en el sistema químico Si-C-N a partir de plasmas de RF de SiH4+CH4+NH3 de baja presión y baja temperatura, y en la posterior caracterización morfológica, estructural y química de estos materiales. Este estudio se ha enfocado hacia el efecto que ejercen los parámetros tecnológicos del proceso de síntesis sobre las propiedades de las nanopartículas. En la mayoría de los casos, al ajsutar los parámetros tecnológicos para controlar el tamaño, se ha tratado de alcanzar una situación de compromiso que han permitido obtener partículas nanométricas, con poca dispersión de tamaño y con mínmo consumo de energía de excitación y de gas precursos, y al mismo tiempo, con mejores características estructurales. Se ha demostrado que se pueden obtener nanopartículas multicompionenetes basadas en el sistema químico Si-C-N, con tamaño y esterquiometría controlados a partir de los parámetros del plasma. Sin embargo, las nanopartículas así formadas contienen un elevado contenido de hidrógeno y una elevada porosidad,lo que provoca que éstas reaccionen con las moléculas del ambiente y se oxiden espontánemente. Por lo tanto ha sido necesario un tratamiento " a-posterior" que mejorara la estructura de las partículas obtenidas por plasma. En la segunda parte de este trabajo se han analizado las nanopartículas de Si-C-N sometidas a diversos tratamientos térmicos, con el propósito de conseguir la estabilización química de estos materiales y para explorar los posibles fenómenos de cristalización y siterización. Se ha demostrado que las nanopartículas se vuelven estables bajo condiciones ambientales después de un tratamiento térmico que elimina el hidrógeno de la estructura. Este tratamiento ha consistido en calentar la muestra en un horno hasta 900ºC en condiciones de alto vacío. Los tratamientos térmicos a temperaturas más elevadas 1400ºC y bajo diferentes atmósferas de recocido (N2 y Ar) han resultado en la formación de cristales filamentosos o whiskers de alfa-Si3N4 con anchuras entre 50 y 200 nm, y en la formación de partículas nanocristalinas de beta-SiC. Finalmente, y con el objetivo de abordar algunas de las aplicaciones de estos materiales, se ha investigado el uso de las nanopartículas generadas por plasma para la fabricación de materiales nanoestructurados en lámina delgada, que ha encontrado aplicaciones en dispositivos fotovoltáicos, y como elemento de refuerzo de matrices metálicas de Al (nanocomposites).

Autor: BANERJI NANDINI.
Año: 1998.
Universidad: VIGO.
Centro de lectura: INGENIEROS INDUSTRIALES.

Autor: ABADIA BENGOA CRISTINA.
Año: 1998.
Universidad: ZARAGOZA.
Centro de lectura: CIENCIAS .

Resumen: Se han estudiado las propiedades magnéticas de los compuestos intermetálicos tetragonales RFe11Ti con R=Y, Ho, Tb; prestando especial atención a su anisotropía magnetocristalina. Se ha descartado la existencia de una transición de reorientación de spin para el HoFe11Ti punto controvertido en la literatura. Se ha estudiado la reorientación de spin para el TbFe11Ti, determinando la dependencia del ángulo de la dirección fácil con el eje c, con la temperatura, para distintos campos magnéticos aplicados. Utilizando un modelo de campo medio con dos subredes, en el que el comportamiento de la subred de Fe se describe fenomenológicamente a partir del compuesto isoestructural YFe11Ti, se han determinado los parámetros de campo eléctrico cristalino hasta orden sexto y de canje para el HoFe11Ti y para el TbFe11Ti. Se ha estudiado el acoplo magnetoelástico en el intermetálico tetragonal de magnetismo itinerante Y2Fe14B. Se han determinado los distintos modos de deformación irreducibles de su celda cristalina, aislando las deformaciones puras de campo cristalino a un-ion de volumen y tetragonal, que se han explicado con un modelo de magnetoestricción(MS) de Stoner-Wohlfarth que hemos extendido para el caso de simetría tetragonal. En base a un modelo de Hubbard se ha explicado la MS espontánea de acoplo magnetoelástico a dos iones del Y2Fe14B. Se concluye que este intermetálico se comporta como un ferromagnético itinerante tipo Hubbard por lo que respecta a su magnetoestricción espontánea. Se ha estudiado el comportamiento magnético y magnetoelástico de películas delgadas de Nd2Fe14B de diferentes espesores. Para ello se ha fabricado una celda capacitiva de silica. Se han determinado los valores de las tensiones magnetoelásticas b127 de las películas y del monocristal de Nd2Fe14B que son inferiores en todos los casos a 107.Pa, valores adecuados para la utilización de estos materiales como imanes en las nanotecnologías. Se ha realizado un estudio estructural y magnético de películas de DyZn crecidas en esta tesis. Para ello se ha puesto a punto una técnica de preparación de muestras en el laboratorio de Magnetismo de la Universidad de Zaragoza: la pulverización catódica. Se ha obtenido DyZn paramagnético y estructuralmente amorfo.

Autor: MARTINEZ SACRISTAN OSCAR.
Año: 1998.
Universidad: VALLADOLID.
Centro de lectura: INGENIEROS INDUSTRIALES .

Resumen: En este trabajo se recoge los resultados correspondientes a propiedades estructurales de peliculas delgadas de YBCO depositadas por la tecnica PLD (Depositos por pulsos laser) y sometidas algunas de ellas a procesos de grabado. En concreto se estudia la concentración de oxigeno, la orientación de losa granos, existencia de impurezas o defectos, etc... Se emplea para ello basicamente la tecnica micro-raman, tecnica que permite un amplio analisis de dichas propiedades estructurales, como se refleja en el trabajo. De los resultados obtenidos queda claro que los procesos de deposito de este tipo de peliculas son muy delicados y deben optimizarse al maximo, sobre todo de cara a limitar las inhomogeneidades estructurales, que aparecen en gran medida en las muestras y que pueden dar lugar a malas propiedades de transporte. La tecnica micro-raman permite ademas estudiar las modificaciones que se producen en las areas proximas a los bordes de grabado encontrandose notables diferencias en muestras grabadas por ablación laser o grabado ionico respecto a muestras grabadas mediante ataques quimicos (EDTA). Otras tecnicas empleadas fueron difracción de Rayos-X, RBS y tecnicas topograficas (AFM y PSM) que permitieron completar el estudio realizado.

Autor: CARO PRADOS JAIME.
Año: 1998.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FISICA .

Resumen: En esta tesis doctoral se describe la obtención y caracterización de capas delgadas del conductor orgánico molecular TTF-TCNQ (obtenidas mediante OCVD, Organic Chemical Vapor Deposition, y evaporación el alto vacío) y de los radicales magnéticos orgánicos p-NPNN y p-NC.C6D4.CNSSN. (obtenidas mediante evaporación en alto vacío). Las capas obtenidas presentan un alto grado de cristalinidad y orientación. Las propiedades físicas, estructurales, morfológicas, composición, así como los mecanismos de crecimiento de las capas son analizados mediante diversas técnicas de caracterización; espectroscopía de UV-visible, espectroscopía de resonancia paramagnética, difracción de rayos X, microscopía electrónica de barrido (SEM), microscopía de fuerzas atómicas (AFM) y espectroscopía fotoelectrónica de rayos X (XPS).

Autor: CLERIES GARCIA LAURA.
Año: 1998.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FISICA.

Resumen: La tesis se centra en el estudio in vitro de recubrimientos de fosfato de calcio sobre substratos de una aleación de titanio obtenidos por ablación por láser. Dado que estos recubrimientos han de ser aplicados como implantes para reemplazar tejido óseo, es necesario evaluar si estos recubrimientos serán degradados, si se unirán al hueso gracias al fosfato de calcio y si el recubrimiento no se delaminará del substrato, y por ello se han realizado estudios in vitro. Los recubrimientos de hidroxiapatita (HA) cristalina no se degradan, el fosfato tricálcico alfa se disuelve en los recubrimientos que contienen esta fase creándose microporosidad, y los recubrimientos defosfatode calcio amorfo se disuelven totalmente. De los experimentos in vitro con células óseas se deduce que los recubrimientos de HA siguen siendo estables pero al mismo tiempo se unen fuertemente al hueso y de forma rápida. Los otros tipos de recubrimientos no se unen tan fuertemente ni tan rápidammente. En cuanto a las propiedades de adhesión, los recubrimientos amorfos son los más debilmente unidos al substrato. Los recubrimientos de HA con estructura columnar se delaminan antes que los recubrimientos de HA con estructura granular, y ésto es debido a la acumulación de tensiones durante el proceso de crecimiento del recubrimiento columnar.

Autor: FERNANDEZ PRADAS JUAN MARCOS.
Año: 1998.
Universidad: BARCELONA.
Centro de lectura: FISICA.

Resumen: El estudio del crecimiento y de las propiedades constitutivas de los recubrimientos de fosfato de calcio obtenidos mediante ablación con láser, ha permitido buscar las condiciones de depósito óptimas para obtener hidroxiapatita. Se ha demostrado que es posible depositar capas compactas de hidroxiapatita de alta calidad cristlina para ser utilizados como recubrimientos de implantes de Ti6A14V bioactivos, estables y duraderos. Mediante el controlde los parámetros tecnológicos involucrados en el depósito por ablación con láser es posible obtener recubrimientos con diferentes características para que puedan ajustarse a los requerimientos de cada aplicación específica. Es necesario utilizar temperaturas de substrato superiores a 400 grados C para poder sintetizar fases cristalinas. Una presión de vapor de agua de 50 Pa favorece la obtención de recubrimientos de hidroxiapatita. Los ritmos de depósito lentos favorecen también la presencia de hidroxiapatita en detrimento de los otros fosfatos de calcio.

Autor: PRIETO DE CASTRO JOSE EMILIO.
Año: 1998.
Universidad: AUTONOMA DE MADRID.
Centro de lectura: CIENCIAS.

Resumen: En esta tesis se estudian, mediante difracción de electrones de pequeña energía (LEED) cuantitativa y microscopía de efecto túnel (STM) aplicadas in situ, la estructura y morfología de películas delgadas y bicapas de Co y Cu crecidas epitáxicamente sobre Cu(111) con y sin Pb como surfactante. Estas heteroestructuras son interesantes por sus novedosas propiedades magnéticas. En las películas de Co de pequeños espesores depositadas sobre Cu(111), se detectan dominios de Co minoritarios que contienen una falta de apilamiento respecto a la estructura FCC del resto. Se proponen como candidatos para las islas triangulares de orientación minoritaria observadas por STM. Para un espesor de 5 monocapas de Co se ha completado en un 90% una transición rápida hacia la estructura HCP. La estructura superficial de bicapas Cu/Co/Cu(111) es FCC. Para pequeños espesores de Co predomina la secuencia de apilamiento del sustrato, mientras que a espesores mayores aparecen ambas maclas en igual medida y se da un cambio en el registro del Co hacia la estructura FCC maclada inducido por el Cu, lo que explica la estructura de superredes Co/Cu(111). El mismo efecto se observa en películas de Cu sobre Co(0001), que crecen con la estructura FCC maclada y, hasta 3-4 monocapas, pseudomórficas y con reducida rugosidad. La segunda parte de la tesis estudia el crecimiento de películas de Co y Cu sobre Cu(111) previamente recubierto por una monocapa de Pb, que forma una estructura (4x4), flota sobre dichas películas y actúa como surfactante. El Pb induce el crecimiento en el modo capa a capa por nucleación bidimensional con un gran aumento en la densidad de islas y no modifica la secuencia de apilamiento de las películas e Co. Asimismo, las bicapas Cu/Co crecen con Pb con muy reducida rugosidad superficial, lo que explica la mejora de sus propiedades magnéticas y la ausencia de maclado previamente publicadas. El análisis estructural de la superficie (4x4)Pb/Cu(111) muestra grandes desplazamientos verticales en la capa de Pb y, sobre todo, en las primeras de Cu, según un esquema de corrugación inversa. Se han realizado experimentos de homoepitaxia en Cu(111) con y sin surfactante y se han comparado con resultados de simulaciones de Montecarlo. Se concluye que el surfactante cambia el mecanismo de difusión: del modo a saltos, pasa a tener lugar por intercambio atómico bajo la capa de Pb, lo que explica los resultados experimentales. Se propone la distorsión del sustrato inducida por el surfactante como la causa del cambio en el mecanismo de difusión y, por tanto, en el mode de crecimiento y en las propiedades de las películas.

Autor: SIEGEL JAN.
Año: 1998.
Universidad: AUTONOMA DE MADRID.
Centro de lectura: CIENCIAS.

Resumen: La dinámica de las transformaciones estructurales inducidas por pulsos láser de picosegundos (ps) y la determinación de los factores experimentales que las controlan constituyen el centro de interés de este estudio. Para ello se han desarrollado distintos sistemas de medidas ópticas en tiempo real con resolución de ps, basado en la utilización de una Cámara "Streak". El estudio comparativo de los procesos de fusión y solidificación rápida en láminas amorfas de Ge con espesores y substratos diferentes, así como en el material monocristalino ha proporcionado una amplia comprensión de las diferentes dinámicas de fusión y solidificación rápida que pueden inducirse por irradiación por pulsos de ps. Se ha realizado un esfuerzo adicional en el estudio de transiciones estructurales dentro de la fase amorfa en láminas delgadas de Ge y se ha analizado de forma muy especial los fenómenos reversibles de relajación. Finalmente, se han estudiado las transformaciones de fase inducidas por pulsos de ps en láminas de GeSb que es un medio soporte de gran interés para discos ópticos borrables ultrarrápidos, determinando las condiciones necesarias para inducir transformaciones reversibles de fase en tiempos menores de un nanosegundo.

Autor: GUTIERREZ LLORENTE ARACELI.
Año: 1998.
Universidad: AUTONOMA DE MADRID.
Centro de lectura: CIENCIAS.

Resumen: Láminas delgadas de Oxinitruros de Silicio (SiOxNy) se han crecido por sputtering reactivo a partir de diferentes blancos (Si, SiO2, Si3N4) y combinaciones de gases (Ar, N2, O2). El objetivo final de estas láminas es el diseño de recubrimientos ópticos reflectantes que puedan ser utilizados como espejos en láseres de alta potencia siempre que dichos filtros sean transparentes en el rango elegido. De esta forma, en el dispositivo óptico en el que se integren no existirán pérdidas por absorción. Mediante Espectrometría por Retrodispersión de Iones (RBS) y Análisis de Reacciones Nucleares (NRA) se han determinado la estequiometría de las películas, observando que el rango de N(N/+O) puede variarase entre los extremos correspondientes al óxido de silicio (SiO2) y al nitruro de silicio (Si3N4) a partir del control de las variables de deposición. Mediante Espectrocopía en el IR por Transformada de Fourier (FTIR) se ha analizado la estructura química de las láminas, concluyendo que ésta no corresponde a una separación de fases SiO2/Si3N4 y que no está unicamente determinada por la estequiometría de la película. En efecto, la combinación blanco/plasma utilizada en el crecimiento influye en su microestructura. La rugosidad superficial de las láminas se ha analizado medinate Microscopía de Fuerzas Atómicas (AFM). Dicha rugosidad es suficientemente baja como para que las láminas quedan emplearse como recubrimientos ópticos asegurando bajas pérdidas por dispersión. Las propiedades ópticas (índice de refracción: n; coeficiente de extinción: k) en el rango visible se han determinado a partir de medidas de reflectancia (R) y transmitancia (T). En las láminas de SiOxNy crecidas a partir de un blanco de Si el índice de refracción (n) puede variarse entre los correspondientes a nsio2 y nsi3n4 además de ser transparente en el rango visible. Por ello, estas películas se han utilizado para crecer un filtro reflectante multicapa con una banda de Rmax=81% centrada en landa0=514 nm.